CORE TECHNOLOGY

극초정밀 제어 기술의 핵심

LM Guide의 정밀도 한계를 넘어선 독자 에어베어링 기술부터
차세대 신소재까지, 블루모션테크만의 기술 경쟁력을 소개합니다.

Industry background

초미세·초집적 시대가 요구하는 정밀도

반도체는 이미 1~3nm 노드 양산 시대에 진입했습니다.
HBM·U-LED·OLED FMM 등 최첨단 공정은 기존 μm급 제어로는
더 이상 대응이 불가능합니다.

블루모션테크는 이 흐름의 최선봉에서 독자 에어베어링 기술로
국내 초정밀 제어 시장의 국산화를 이끌고 있습니다.

나노(nm) 단위 초집적 회로의 Challenge
무어의 법칙을 넘어 1~3nm 나노 단위 초집적 회로 등장. 생산·검사 장비에서 nm급 초정밀 제어가 필수 요건으로 대두.
HBM 미세 적층 컨트롤의 필요
적층형 HBM의 TC/Hybrid Bonding 등 새로운 공정에서 μm을 넘어 nm 단위의 초정밀 컨트롤 요구가 급증.
LM Guide 정밀도의 구조적 한계
LM Guide 정밀도(>±5μm) 및 Yaw Pitch(>±10arcsec)로는 한계. 블루모션테크의 독자 에어베어링이 이를 극복.
초정밀 분야의 낮은 국산화율
정밀도 1μm 이하 초정밀 제어 분야는 전통적으로 독일·일본 독점. 블루모션테크는 10년 이상 국산화에 매진, 동등 이상 기술 상용화.
01

BlueAiring®

특허받은 에어베어링 기술  ·  특허 10-2583948

긴 스트로크에서도 ±0.5μm 이하의 초미세 제어가 안정적으로
가능하며, 6축 모두에 대한 정밀 정렬이 가능합니다.

기존 LM Guide의 정밀도 한계(>±5μm, Yaw Pitch >±10arcsec)를
독자 Air Bearing 기술로 극복했습니다.

정밀도
±0.1μm
분해능
1nm
최대 스트로크
1,000mm+
Yaw / Pitch
±2 arcsec
BlueAiring® 실시간 작동 원리
LIVE COORDINATES
X
0.0000000
Z
0.0000000
BlueAiring® ±0.1μm
Air Film (공기막)
Noncontact Linear Encoder
1nm Resolution
±0.5μm
장행정 정밀도
6
정밀 정렬 제어
0
기계적 마찰
1000mm+
스트로크
02

Ceramic Orifice Stage

HBM Advanced Package 1nm 정밀도용 신소재

HBM Advanced Package용 1nm 스테이지의 정밀도를 구현하기 위해
개발된 SiC(탄화규소) 기반 Single Plane Ceramic Orifice Air
Bearing Stage입니다.

석정반(Granite)만으로 달성할 수 없는 안정성을 SiC 소재로
구현하며, SK하이닉스·인텔 향 반도체 핵심 공정에 대응합니다.

SiC (탄화규소) 소재 기반
Single Plane 구조
HBM 3.0 검사 장비 대응
SK하이닉스 · 인텔 향 공정
Ceramic Orifice Stage 구조

Single-Axis Air Bearing Stage (도식)

ENC Rail Housing (SiC Ceramic · 고정) Moving Slide (SiC Ceramic) 이동 → Air Film 3면 이동 스트로크 (최대 1,000mm+)
1nm
분해능
±0.1μm
정밀도
±150nm
반복재현성
±0.5arcsec
Roll/Pitch/Yaw
03

미네랄 캐스팅

석정반 대체 친환경 신소재  ·  A Perfect Substitute for Granite

태백 석탄광산의 폐경석(폐자재)을 재활용한 친환경 소재입니다.
상온 경화 방식으로 주철 대비 최대 90%의 에너지를 절감하며,
이산화탄소 배출량을 획기적으로 줄였습니다.

석정반 대비 진동 감쇠율이 뛰어나 초정밀 공작기계, 측정장비,
반도체 및 의료기기 산업의 핵심 소재로 주목받고 있습니다.

6~8배

진동 감쇠율 (vs 주철)

최대 90%

에너지 절감

석정반 수준

열팽창계수

상온 경화

친환경 생산 방식
공작기계
측정장비
반도체
의료기기
진동 감쇠 반응 비교
Impact Impulse Response Test
미네랄 캐스팅
석정반 (Granite)
주철 (Cast Iron)
미네랄 캐스팅
즉각 감쇠
0.1s
석정반
완만 감쇠
0.5s
주철
잔여 공진
2.0s+
6~8
진동 감쇠율
90%
에너지 절감
04

초미세 가공 기술 & 장비

Ultra Fine & Precision 3D Laser Machining System · SLE 기술

자체적인 Femto Laser 기술을 통해 초미세 가공 장비를 개발하여
초정밀 기술을 응용한 새로운 사업 분야를 확장하고 있습니다.

SLE(Selective Laser-induced Etching) 기술로 Fused Silica 유리와
같은 재료의 내부에 3D 구조를 직접 형성합니다.

SLE 기술 — Fused Silica 내 선택비 1:2,000 달성
Undercut 각도 제한 없음 — 기존 가공 한계 초월
Min. Channel Width 10μm / Height 20μm 구현
초정밀 스테이지 기술 직접 응용 — nm 단위 위치 제어
Laser Parameters
190fs
최소 펄스 폭
800μJ
최대 펄스 에너지
80W
최대 출력
2MHz
반복률
Features in Fused Silica
Undercut AngleNo Limit
Min. Channel Width (X/Y)10 μm
Min. Channel Height (Z)20 μm
Max. Precision (X/Y/Z)±1 μm
Max. Workpiece300×300×20 mm
Max. Channel Depth20 mm
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